矽(silicon),是一種化學元素,化學符號是si,舊稱矽。原子序數14,相對原子質量28、0855,那麼矽與氫氟酸反應的離子方程式是什麼呢?
矽與氫氟酸反應的離子方程式是什麼。
1、氫氟酸和矽反應的離子方程式是:si+4hf=sif4+2h2(h2後面加氣體符號)。
2、氫氟酸是氟化氫氣體的水溶液,清澈,無色、發煙的腐蝕性液體,有劇烈刺激性氣味。熔點-83、3℃,沸點112、2℃,密度0、888g/cm³。易溶於水、乙醇,微溶於乙醚。
3、因為氫原子和氟原子間結合的能力相對較強,使得氫氟酸在水中不能完全電離,所以理論上低濃度的氫氟酸是一種弱酸。
4、具有極強的腐蝕性,能強烈地腐蝕金屬、玻璃和含矽的物體。如吸入蒸氣或接觸皮膚會造成難以治癒的灼傷。實驗室一般用螢石(主要成分為氟化鈣)和濃硫酸來製取,需要密封在塑料瓶中,並保存於陰涼處。
以上就是給各位帶來的關於矽與氫氟酸反應的離子方程式是什麼的全部內容了。
矽與氫氟酸反應的離子方程式是什麼。
1、氫氟酸和矽反應的離子方程式是:si+4hf=sif4+2h2(h2後面加氣體符號)。
2、氫氟酸是氟化氫氣體的水溶液,清澈,無色、發煙的腐蝕性液體,有劇烈刺激性氣味。熔點-83、3℃,沸點112、2℃,密度0、888g/cm³。易溶於水、乙醇,微溶於乙醚。
3、因為氫原子和氟原子間結合的能力相對較強,使得氫氟酸在水中不能完全電離,所以理論上低濃度的氫氟酸是一種弱酸。
4、具有極強的腐蝕性,能強烈地腐蝕金屬、玻璃和含矽的物體。如吸入蒸氣或接觸皮膚會造成難以治癒的灼傷。實驗室一般用螢石(主要成分為氟化鈣)和濃硫酸來製取,需要密封在塑料瓶中,並保存於陰涼處。
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