duv和euv技術區別[朗讀]

duv是深紫外線（deep ultraviolet lithography），euv是極深紫外線（extreme ultraviolet lithography）。從製程範圍來看，duv基本上只能做到25nm，intel憑藉雙工作台的模式做到了10nm，但是卻無法達到10nm以下。只有euv能滿足10nm以下的晶圓製造，並且還可以向5nm、3nm繼續延伸。