光刻機性能指標是什麼[朗讀]

光刻機採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。那麼光刻機性能指標是什麼呢？
光刻機性能指標是什麼。
1、光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸範圍，解析度、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
2、解析度是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的解析度受受光源衍射的限制，所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。
3、對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。
4、曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。
5、曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區域，光源有汞燈，準分子雷射器等。
以上就是給各位帶來的關於光刻機性能指標是什麼的全部內容了。